제품명 용도 및 제거 가능 물질 성 상 사용방법 비고 OXST   Quartz, Ceramic, SUS 재질 부품에 부착 된   Oxide 계열 및 그 외의 오염된 물질(SiO2,   SiF, WFx, Ti, C, F, Al etc) 제거용   pH 4.5±1.0 (약산성)   무색의 액체   약간의 산취기 있음   추천온도 : 25 - 60℃   단순 침적(세정효과를 높이기   위해 세정조에 Bubble,   Agitation, Circulation 장치   추가) 세정용 케미칼 CMST   Quartz, Ceramic, SUS 재질 부품에 부착 된   엷은 Metal 막(w, Ti, TiN, F, Cl, Br, Si, O   etc.) 제거용   pH 8.5±1.0(약알칼리)   무색의 액체   냄새 없음   추천온도 : 60 - 80℃   단순 침적(세정효과를 높이기   위해 세정 조에 Bubble,   Agitation, Circulation 장치   추가) TBST-100   Ni Coating된 Turbo Pump 부품에 부착된   오염 물질(SF6, Cl2, PH3, SiH4, ASH3, BF3,   BCl3 etc) 제거용   pH 8.5±1.0(약알칼리)   무색의 액체   냄새 없음   추천온도 : 60℃   단순 침적(세정효과를 높이기   위해 세정 조에 Bubble,   Agitation, Circulation 장치   추가) QNST   Quartz Tube의 Nitride(SiO2 및 Si3N4 etc)   세정용   pH 4.5±1.0(약산성)   무색의 액체   약간의 산취기 있음   추천온도 : 25 - 40℃   Vertical type의 케미컬 스프레   이 방법 및 Horizontal Type의   케미컬 침적 방법 QPST   Quartz Tube의 Poly-Si 막 세정용   pH 1.0 이하(강산성)   무색의 액체   산취기 있음   추천온도 : 25 - 40℃   Vertical type의 케미컬 스프레   이 방법 및 Horizontal Type의   케미컬 침적 방법 GST-300W   Si 전극 Hole Etching용   pH 1.0 이하(강산성)   무색의 액체   산취기 있음   추천온도 : 25 - 40℃   장치 컨셉에 따라 결정 식각용 케미칼 JWT-4035   Si 제품의 연삭 등 기계 가공 후 표면 처리용   pH 1.0 이하(강산성)   무색의 액체   산취기 있음   추천온도 : 25 - 40℃   침적(장치컨셉에 따라 처리   방법은 달라질 수 있음) QEST   Quartz Etchant   pH 4.5±1.0(약산성)   무색의 액체   약간의 산취기 있음   추천온도 : 50℃   단순침적(용도에 따라 Bubble   및 Spray 방법 적용)